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Triphenylsulfonium nonaflate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name Triphenylsulfonium nonaflate
CAS144317-44-2
ProductNumYH68171
FormulaC22H15F9O3S2
MW562.46

電子級全氟丁基磺酸三苯基锍鹽是一種高性能光酸生成劑,專為高分辨率光刻工藝設(shè)計(jì)。其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和光酸生成效率使其成為先進(jìn)制程中關(guān)鍵材料之一,特別適用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻技術(shù)。該產(chǎn)品滿足苛刻的電子級純度需求,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和微電子加工領(lǐng)域,助力實(shí)現(xiàn)精密圖形轉(zhuǎn)移和高集成度器件的生產(chǎn)。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

1)化學(xué)名稱:全氟丁基磺酸三苯基锍鹽。

2)分子式:C22H15F9O3S2

3)分子量:562.46 g/mol。

外觀與溶解性

1)外觀:白色至淺黃色粉末。

2)溶解性:易溶于常見有機(jī)溶劑,如甲醇、丙酮和乙腈。

熱穩(wěn)定性與純度

1)熱分解溫度:>180℃,滿足光刻過程中熱處理要求。

2)純度:≥99.9%,符合電子級標(biāo)準(zhǔn),雜質(zhì)含量極低。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻技術(shù)

1)用作DUVEUV光刻膠中的光酸生成劑,提升感光靈敏度。

2)確保光刻膠的圖形分辨率和精準(zhǔn)度,適應(yīng)先進(jìn)制程工藝。

半導(dǎo)體制造

1)適用于晶圓加工中的蝕刻和圖形轉(zhuǎn)移工藝,滿足7nm及以下節(jié)點(diǎn)的技術(shù)需求。

2)提高半導(dǎo)體器件的性能和穩(wěn)定性,支持高密度電路設(shè)計(jì)。

其他電子領(lǐng)域

1)在顯示面板制造中,用于提升微細(xì)圖形生成效果。

2)適合光電子器件和集成光學(xué)系統(tǒng)的精密加工,優(yōu)化性能表現(xiàn)。


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86-571-82693216
CS
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