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Sulfonium, triphenyl-, 1-[(3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]dec-1-yl)methyl] 1,1,2,2-tetrafluoro-1,4-butanedisulfonate (1:1)

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name Sulfonium, triphenyl-, 1-[(3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]dec-1-yl)methyl] 1,1,2,2-tetrafluoro-1,4-butanedisulfonate (1:1)
CAS1428237-74-4
ProductNumYH68173
FormulaC39H36F4O7S3
MW716.83

電子級三苯基锍,1-[(3-羥基三環(huán)[3.3.1.13,?]-1-)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽是一種高性能光酸生成劑,專為先進光刻工藝設(shè)計。其獨特的分子結(jié)構(gòu)結(jié)合了三苯基锍和多官能團基團,具備優(yōu)異的光敏性、化學(xué)穩(wěn)定性以及在苛刻條件下的高效性能。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光刻膠開發(fā)以及其他高精度光電子工藝中,支持新一代芯片與微納器件的制造需求。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

1)化學(xué)名稱:三苯基锍,1-[(3-羥基三環(huán)[3.3.1.13,?]-1-)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽

2)分子式:C39H36F4O7S3

3)分子量:716.83 g/mol

外觀與溶解性

1)外觀:白色或淺黃色粉末。

2)溶解性:溶于極性有機溶劑,如二甲基亞砜(DMSO)、乙腈和甲醇。

熱穩(wěn)定性與純度

1)熱穩(wěn)定性:熱分解溫度>200℃,適應(yīng)多種工藝條件。

2)純度:≥99.9%,符合電子級材料的嚴格質(zhì)量要求。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻膠材料

1)用作DUVEUV光刻膠中的光酸生成劑,提高光刻分辨率和圖形保真度。

2)優(yōu)化高端制程工藝,支持先進芯片制造需求。

半導(dǎo)體制造

1)應(yīng)用于晶圓加工中的光敏反應(yīng),助力實現(xiàn)高精度圖案轉(zhuǎn)移。

2)支持5nm及以下節(jié)點技術(shù)工藝。

光電子與顯示技術(shù)

1)在顯示面板制造中,用于提升圖形處理的精度與分辨率。

2)適用于光電子器件制造,提高器件的可靠性和性能表現(xiàn)。


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86-571-82693216
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